公元2013年,盛夏。
启明芯科技帝国的声威,如同盛夏的骄阳,普照全球。
东方屏引领显示潮流,鹰眼CIS定义手机影像,神农存储打破寡头垄断。
“开天计划”的三大战役,捷报频传,所向披靡。
世界,似乎都在为这颗来自东方的科技巨星的冉冉升起而欢呼。
林轩,这位年轻的帝国掌舵者,也几乎被媒体和公众,神化为无所不能的“科技之神”。
然而,就在这片看似不可一世的辉煌之下,
一柄早已被林轩预见、却也一直是他心中最大隐忧的达摩克利斯之剑,
终于在M国政府那只看不见的黑手的操纵下,
以一种最精准、也最致命的方式,悍然斩落!
事件的引爆点,是启明芯位于庐州神农1号超级晶圆厂内,
一条正在进行下一代192层3DNANDFlash和早期DDR4内存关键工艺验证的、最先进的研发中试线上。
这条产线,汇聚了坂本健一团队和启明芯最顶尖的工艺与设备工程师,
承载着神农存储向更高技术节点迈进的全部希望。
其所使用的核心光刻设备,EUV依然被M国以各种理由死死卡住,不予出口许可,
虽然依旧是ASML的DUV沉浸式光刻机
但也已是启明芯通过各种渠道能弄到的、最接近国际顶尖水平的型号。
而要让这些DUV光刻机能够稳定地加工出20纳米以下、甚至逼近10纳米级别的精细线路,
一种被誉为光刻胶皇冠上的明珠的、拥有极高分辨率和极低缺陷率的——顶级ArF浸没式光刻胶,便成为了不可或缺的核心战略物资。
这种等级的光刻胶,其核心技术和全球市场,长期被东瀛的JSR、信越化学、东京应化(TOK),以及M国的陶氏化学等少数几家寡头垄断。
启明芯虽然也通过SIA部门和赵晴鸢的全球供应链网络,与这些巨头建立了采购关系,并签署了长期供货协议。
但核心配方和最先进的工艺参数,对方始终讳莫如深,严格保密。
启明芯能拿到的,大多也只是商业通用版,而非他们供给Intel或三星的特调顶级版。
即便如此,在启明芯强大的技术整合能力和伏羲AI平台的工艺优化下,
这些商业通用版的高端光刻胶,也勉强能够支撑神农1号现有产线的运转。
然而,就在神农1号的研发中试线,准备向更精密的1Y纳米级DRAM工艺(约16-19nm)
和200层以上3DNAND堆叠技术发起冲击,对光刻胶的分辨率、均匀性和稳定性
提出更高要求的时候——
一封来自东瀛信越化学(启明芯在该型号光刻胶上的主要供应商)的官方邮件,
如同晴天霹雳,骤然打乱了所有的计划!
邮件内容异常简洁,也异常冰冷:
“尊敬的启明芯科技:由于贵公司近期在全球部分市场存在潜在的知识产权风险,
以及M国商务部针对特定最终用户和特定最终用途可能采取的出口管制措施,
为避免给我司带来不必要的商业和法律风险,
我们不得不遗憾地通知贵方,从即日起,
我司将暂时中止向贵公司供应型号为KE-998X的超高分辨率ArF浸没式光刻胶。
后续恢复供货时间,需等待进一步的风险评估和相关政府部门的明确指示。
对此造成的不便,我们深表歉意。”
“KE-998X”!这正是“神农1号”研发中试线冲击下一代工艺所必需的、
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